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北京高純99.99三氧化二鋁AL2O3 納米氧化鋁光學鍍膜材料氧化鋁
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北京高純99.99三氧化二鋁AL2O3 納米氧化鋁光學鍍膜材料氧化鋁

相關資訊
  • 分類
    無機化學品/其他
  • 原產地
    中國大陸 北京市
  • 品牌
    DM
  • 銷售方式
    零售
  • 銷售目標市場
    中國大陸
  • 關鍵字
    高純99.99三氧化二鋁、三氧化二鋁AL2O3、納米氧化鋁
產品說明
氧化鋁粒,三氧化二鋁顆粒 三氧化二鋁純度99.99%,高純鋁顆粒,高純鋁片,AAO專用鋁箔片 
化學符號:Al2O3 
外   觀:透明
規格:1-3mm
純度:4N 
密    度:4g/cm3 
熔    點:2045℃  
沸    點:2980℃ 
蒸發溫度:1800℃  
蒸發方式:電子束  
透明範圍/nm:200-7000 
折射率n(波長/nm):1.59(600)/1.56(1600) 
             基片溫度為300℃時,λ=600nm,n=1.62;λ=1.6μm,n=1.59; 
             基片溫度為40℃時, λ=600nm,n=1.59;λ=1.6μm,n=1.56; 
蒸發源材料:W 、Mo  
溶 解 于:純酸、堿 
薄膜的機械和化學性質:形成光滑的硬膜 
性    能:高純氧化鋁具有耐腐蝕、耐高溫、高硬度、高強度、抗磨損、抗氧化、絕緣性好和表面積大等特點;不溶于水,微溶于強酸和強堿溶液,並能被氫氟酸和硫酸氫鉀浸蝕; 
高純超細氧化鋁的優點:純度高、粒徑小、密度大、高溫強度大、耐蝕性和易燒結; 
應    用:增透膜,多層膜,防反膜,眼鏡膜,保護膜 
用    途:廣泛應用於生物陶瓷、精細陶瓷、化工催化劑、稀土三基色熒光粉、積體電路晶片、航空光源器件、濕敏性感測器及紅外吸收材料; 
Al2O3膜的主要性能:  
密    度/g?cm-3:3.1-4.0  
電 阻 率/Ω?cm:1012-1013 
折 射 率:1.72-1.76  
禁帶寬度eV:7 
介電常數:7.5-9.6  
產生龜裂厚度/μm:0.4 
介電強度/V?cm-1:1×106-7×106  
表面負電荷密度:3×1011-1012 
紅外吸收峰/μm:14-16  
Al2O3-Si界面密度/(cm2?eV)-1: 1010-1011 
Al2O3分析報告: 
Mn      Cr       Pb       Ni       V       Nb 
0.003 0.001 0.001 0.001 0.001 0.0001 
Co      Ta     
0.001 0.001
優勢
  • 品質優良
    純度3N~5N製造的DM北京高純99.99三氧化二鋁AL2O3 納米氧化鋁光學鍍膜材料氧化鋁
  • 多樣設計
    蒂姆(北京)新材料科技有限公司提供北京高純99.99三氧化二鋁AL2O3 納米氧化鋁光學鍍膜材料氧化鋁的多樣化設計,如有需要請與我們聯絡,立即連絡
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